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?摘要
                            

Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結構內(nèi)部的分布。為此，任意周期結構(包括透射和反射、介質或金屬光柵)內(nèi)的場通過應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。 

尋找元件內(nèi)部場分析儀:FMM

               

元件內(nèi)部場分析儀:FMM是光柵光學設置的專用功能，可提供光柵結構內(nèi)部電磁場的可視化。
 

評估模式

 

為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結合。 

  前向傳播模式                  后向傳播模式                前向和后向傳播模式

評估區(qū)域                                   

光柵類型 

元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結構進行分析。這里有幾個例子。

光柵表面采樣

光柵表面采樣

對光柵結構進行充分的采樣意味著采樣效應不應明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。

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