泰伯(TALBOT)光刻機

作為最著名的衍射效應之一,泰伯(Talbot)效應可以用于光刻技術中以制造周期性納米結構。繼I.-H. Lee等人,我們在六邊形網格上構造了一個圓錐形光柵掩膜版,并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是,由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的,因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。

 

圓錐形相位掩模的Talbot圖像

 

1.png

 

在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像,以使柱形圖案位于主像平面中,而孔圖案出現在次像平面中。 

 

用于光柵仿真的非偏振光–實例討論

 

2.png

 

示范了在VirtualLab Fusion的光柵仿真建模中,如何以兩個正交偏振態的平均值建模非偏振光的影響。

 

了解更多信息發送消息至: support@infotek.com.cn / support@infocrops.com 

官方網站: http://www.infotek.com.cn / http://www.honglun-seminary.com

微信圖片_20230913092744.jpg
登錄后免費查看全文
立即登錄
App下載
技術鄰APP
工程師必備
  • 項目客服
  • 培訓客服
  • 平臺客服

TOP