東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠

東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠的圖1


東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠的圖2


東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠的圖3


CINNO Research產業資訊,東進世美肯(Dongjin Semichem)投身于“High NA極紫外線(EUV)”用光刻膠(Photoresist,PR)的開發中。High NA EUV是被稱為新一代半導體曝光設備的設備,被譽為2納米以下超微工藝必備設備。繼國內首次量產全部依賴于進口的半導體EUV PR后,將挑戰新一代PR材料的國產化。


東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠的圖4

根據韓媒ETNews報道,東進世美肯最近制定了High NA EUV PR開發路線圖。將從今年下半年啟動研發,目標是最快在2025年上半年完成技術開發。公司計劃在荷蘭半導體設備公司ASML的High NA EUV設備大規模生產之前完成PR開發。

PR是在晶圓上繪制半導體電路的曝光工藝用核心材料。在晶圓上涂布后,經過曝光作業,性質就會發生變化,將成為電路圖案的底色。EUV用PR尤其是在繪制高分辨率圖案時,是必需的材料。到目前為止,雖然全部依賴于從日本等海外進口,但東進世美肯去年曾首次成功實現EUV PR的國產化。采用純韓國自有技術,成功開發出了2019年作為日本出口管制三大品種之一的光刻膠,引起業界廣泛關注。目前正在向三星電子供貨。

新挑戰的新產品是配合“High NA EUV”設備的新一代EUV PR材料。High NA EUV是將展現集光能力的鏡頭開口數(NA)從原來的0.33提高到0.55的設備,是能夠繪制超細電路圖案的關鍵設備。三星電子、SK海力士、TSMC、英特爾等尖端半導體企業都決定從ASML引進該設備。ASML是世界上唯一一家能夠提供EUV設備和新一代High NA EUV設備的企業。

ASML預計明年出貨首臺High NA EUV設備。據悉,2026-2027年將實現大規模量產。東進世美肯在High NA EUV市場正式爆發前完成相關PR產品商業化,為搶占市場打下鋪墊。

東進世美肯正在開發2nm半導體工藝核心材料 High NA光刻膠的圖5

東進世美肯推進多種High NA EUV的PR開發流程。這是因為High NA設備初期的生產效率會下降,影響半導體良率的因素非常多,因此將考慮到多種“變量”,進行產品開發。除了采用少量產生高靈敏度化學反應的化學放大光刻膠(CAR)型外,還考慮到了基于無機物(MOR)的產品。考慮到無機物PR與無機物相比,實現超細微電路的精度更高。

為盡量減少半導體曝光工藝時間,公司還推進改善PR分辨率、圖案粗糙度和靈敏度。這些因素左右著PR的品質、是提高半導體生產性的關鍵因素。

東進世美肯開始開發High NA EUV用PR,預告將與現有的市場領先者一決高下。EUV PR由信越化學、JSR、TOK等日本企業主導。據悉,他們也在開發High NA用PR。

東進世美肯相關人士表示:“材料開發公司必須比零部件、設備公司至少快6個月,才可能被半導體廠商或設備公司采用自己的材料”,并稱,“由于新一代EUV設備尚未普及或材料開發需要驗證,將通過客戶、合作伙伴等獲得產品測試機會,并將啟動針對High NA EUV設備優化的PR開發的各種流程。”

全球顯示及半導體光刻膠市場分析報告


第一章:顯示面板正型光刻膠市場分析



一、 顯示面板光刻膠材料介紹


1.顯示面板光刻膠材料分類介紹

2.液晶顯示面板用正型光刻膠介紹

3.液晶顯示面板用負型光刻膠介紹

4.OLED顯示面板用正型光刻膠介紹


二、 2016-2025全球顯示面板產能狀況及趨勢


1.2016-2025全球總體顯示面板產能狀況及預測

2.2016-2025全球TFT-LCD面板產能占比趨勢預測

3.2016-2025全球AMOLED面板產能占比趨勢預測


三、 2016-2025全球顯示面板用正型光刻膠市場現狀及趨勢


1.2016-2025全球顯示面板正型光刻膠市場容量及預測

2.2016-2025全球顯示面板正型光刻膠市場規模及預測


四、 2016-2025全球顯示面板用正型光刻膠市場現狀及趨勢


1.2016-2025中國顯示面板產能狀況及預測

2.2016-2025中國顯示面板正型光刻膠市場容量及預測

3.2016-2025中國顯示面板正型光刻膠市場規模及預測

4.2020年全球主要顯示面板正型光刻膠材料廠商名錄

5.2020年全球顯示面板正型光刻膠市場份額分析



第二章:半導體光刻膠市場分析



一、 半導體光刻膠材料分類介紹


二、 2016-2025全球晶圓產能狀況及預測


三、 2016-2025全球半導體光刻膠市場現狀及趨勢


1.2016-2025全球半導體正型光刻膠市場容量及預測

2.2016-2025全球半導體正型光刻膠市場規模及預測

3.2020年全球主要半導體光刻膠材料廠商名錄 

4.2020年主要半導體G/I線光刻膠材料廠商市場分析

5.2020年主要半導體KrF線光刻膠材料廠商市場分析

6.2020年主要半導體ArF/ArFi光刻膠材料廠商市場分析



第三章:正型光刻膠用光敏劑材料市場分析



一、 全球顯示面板光刻膠用光敏劑市場現狀及趨勢


1.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場容量及預測

2.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場規模及預測


二、 中國顯示面板光刻膠用光敏劑市場現狀及趨勢


1.2016-2025中國顯示面板光刻膠用光敏劑市場容量及預測

2.2016-2025中國顯示面板光刻膠用光敏劑市場規模及預測


三、全球半導體光刻膠用光敏劑市場現狀及趨勢


1. 2016-2025全球半導體光刻膠用光敏劑材料市場容量及預測

2. 2016-2025全球半導體光刻膠用光敏劑材料市場規模及預測


四、中國半導體光刻膠用光敏劑市場現狀及趨勢


1. 2016-2025中國半導體光刻膠用光敏劑材料市場容量及預測

2. 2016-2025中國半導體光刻膠用光敏劑材料市場規模及預測


五、全球光敏劑材料供應鏈及市場分析


1. 全球主要顯示面板及半導體光刻膠用光敏劑材料廠商分析

2全球主要光刻膠與光敏劑材料廠商供應鏈關系分析

32020年全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場分析

4. 2020年全球半導體光刻膠光敏劑材料市場分析

5.2020年光刻膠用光敏劑市場價格分析


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