請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？

Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。

如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn)

在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下
 

光線追跡：
 

也可以加上BEF片的模擬

模擬結(jié)果