內容簡介：

1.在VirtualLab中如何進行結構設計；

2.在VirtualLab中如何導入和導出加工數據。

結構設計

1) 點擊 ，打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2

2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認為振幅視圖. 點擊，將默認的振幅視圖轉換為相位視圖，點擊“結構設計(Structure Design)”開始設計可產生該相位分布的對應結構

3) 進入(基于薄元近似)的純相位透射結構設計系統窗口

目標(Target)標簽，可以選擇將設計好的結構設計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中

光學設置(Optical Setup)標簽，在此標簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(Substrate Medium)和元件周圍的介質(Surrounding Medium)，同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長（Wavelength）。

光學界面參數(Interface Parameters)標簽，在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None)，以及不進行強制分層(Enforce Quantization),即不產生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點插值）[Pixelated Height Profile (Nearest  Interpolation)]對取樣光學界面進行插值

4) 完成結構設計，在新的LPD中設計好的結構已經包含在名為“Generated Structure Design Component”的元件中

導出加工數據

1) 在LPD中雙擊生成的元件，可見設計好的結構是以雙界面元件(Double Interface Component，簡稱DIC)的形式保存的，而高度輪廓以取樣光學界面（Sampled interface）的形式保存，點擊編輯(Edit)

2) 進入取樣光學界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口，在結構(Structure)標簽上，選擇臨近點插值(Nearest  Interpolation)方法進行高度輪廓插值，并進行3D預覽

3) 在取樣光學界面預覽(Preview of Sampled Interface)中，點擊鼠標右鍵，選擇精度(Accuracy)，將界面取樣精度設置為5，提高取樣光學界面的顯示精度

4) 進入界面高度離散化(Height Discontinuities)標簽，將離散高度階數(Discrete Height Levels)設置為8，通過工具(Tools)中的導出(Export)生成可用于光學界面加工的數據

5) 進入光學界面數據導出窗口

在一般(General)標簽進行如下圖所示的設置

在輸出參數(Export Parameters)標簽上選擇默認參數設置

在GDSII/CIF標簽上選擇默認設置，并點擊Export導出加工數據

導出加工數據列表

導入加工數據

1) 點擊 ，新建一個LPD，在LPD中選取單光學界面(Single Optical Interface)元件，以下簡稱SOI

2) 雙擊SOI，進入其編輯窗口，點擊加載(Load)

3) 導入取樣光學界面(Sampled Interface)

4) 點擊編輯(Edit)，進入取樣光學界面編輯窗口，導入加工數據

5) 打開文件夾中的.xml文件，導入加工文件

6) 導入完成，觀察3D視圖

---