CINNO Research產業資訊，Green Optics公司研發了半導體曝光設備-極紫外線(EUV)用Blank Mask石英基板拋光技術。EUV Blank Mask是在半導體晶圓上刻上超細微電路時使用的Photo Mask原材料。該技術被日本豪雅（HOYA）、旭硝子（AGC）等日本少數企業壟斷，在韓國尚屬于首次開發。

根據韓媒ETNews報道，為了在Mask上形成圖案，需要使用激光。EUV設備需要調整激光透過，并使熱缺陷最小化的高端Blank Mask。

Green Optics的Blank Mask引入了可控制到埃（等于10?1?米）單位的拋光技術。埃是100億分1米的單位，可將厚度3毫米，橫向、縱向153毫米的石英基板拋光至埃單位的水平。

拋光技術是利用自家拋光設備“磁流體拋光加工(MRF)”設備開發的。該設備對于鏡頭、鏡子、濾光片等光學部件的拋光必不可少。Green Optics從2009年開始研發了搭載于衛星上的光學鏡頭，最近曾制作過用于印度宇宙開發結構(ISRO)地球觀測用相機的非軸對稱非球面光學鏡。除了拋光設備，還加強了加工機、涂布機、測量儀等光學零部件制造所需的技術、設備投資。

Blank Mask結構

Green Optics投身于EUV Blank Mask技術開發，是因為半導體Photo Mask的韓國國產化需求。目前，通過引進三星電子、英特爾、TSMC等半導體EUV設備，增強先進半導體生產能力。2019年，Mask市場超過40億美元，2027年將達到59億美元，年均增長4.5%。Green Optics計劃基于拋光技術，與韓國陶瓷研究院、STI等合作開發EUV Blank Mask。

Green Optics相關人士表示，“我們對Blank Mask拋光技術充滿信心，我們將為開發EUV Blank Mask做出最大努力。”

- END -

推薦閱讀

點擊圖片即可閱讀全文

更多商務合作，歡迎與小編聯絡！

掃碼請備注：姓名+公司+職位

我是CINNO最強小編, 恭候您多時啦！

CINNO于2012年底創立于上海，是致力于推動國內電子信息與科技產業發展的國內獨立第三方專業產業咨詢服務平臺。公司創辦十年來，始終圍繞泛半導體產業鏈，在多維度為企業、政府、投資者提供權威而專業的咨詢服務，包括但不限于產業資訊、市場咨詢、盡職調查、項目可研、管理咨詢、投融資等方面，覆蓋企業成長周期各階段核心利益訴求點，在顯示、半導體、消費電子、智能制造及關鍵零組件等細分領域，積累了數百家大陸、臺灣、日本、韓國、歐美等高科技核心優質企業客戶。