第三代半導(dǎo)體材料:國產(chǎn)替代核心賽道
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半導(dǎo)體材料作為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ),經(jīng)歷了數(shù)代的更迭,以碳化硅(Sic)及氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導(dǎo)體,具有高頻、高效、高功率、耐高壓、耐高溫、抗輻射等特性,可以實(shí)現(xiàn)更好的電子濃度和運(yùn)動(dòng)控制,特別是在苛刻條件下備受青睞,成為未來超越摩爾定律的倚賴。
與第一二代半導(dǎo)體材料相比,第三代半導(dǎo)體材料具有更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場、更高的熱導(dǎo)率等性能優(yōu)勢,所以又叫寬禁帶半導(dǎo)體材料。
第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈與一般半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈模式相類似,一般分為襯底、外延生長、設(shè)計(jì)、制造以及封裝這五個(gè)流程,同樣也存在IDM模式,實(shí)現(xiàn)了設(shè)計(jì)制造的一體化。
對于碳化硅行業(yè)而言,市場目前受制于產(chǎn)能不足、良率低,目前整體市場規(guī)模較小,2020年全球市場規(guī)模約6億美元,但是下游需求確定且巨大。
延展閱讀:碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈全景圖譜
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氮化鎵(GaN)
GaN作為一種寬禁帶材料,和硅等傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料相比,能夠在更高壓、更高頻、更高溫度的環(huán)境下運(yùn)行。與SiC相比,GaN在成本方面表現(xiàn)出更強(qiáng)的潛力,且GaN器件是個(gè)平面器件,比現(xiàn)有的Si半導(dǎo)體工藝兼容性強(qiáng),這使其更容易與其他半導(dǎo)體器件集成。
中國建立第三代半導(dǎo)體材料及應(yīng)用聯(lián)合創(chuàng)新基地,搶占第三代半導(dǎo)體戰(zhàn)略新高地;國家科技部、工信部、北京市科委牽頭成立第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA),對推動(dòng)我國第三代半導(dǎo)體材料及器件研發(fā)和相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要意義。
文章來源:樂晴智庫精選
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