CINNO Research產業資訊，5月27日，三井化學宣布，將在2023年7月前完成收購旭化成半導體和LCD制造工藝中光掩模用保護膜業務。隨著全球對半導體需求的增加，造成了對制造過程中周邊相關材料的使用需求也在不斷增長。三井化學旨在通過收購該業務從而抓住強勁的市場需求來加強其現有薄膜業務。

據日本經濟新聞報道，本次收購價格將根據最終協議進行調整后確定。即三井化學將根據與旭化成商定的74億日元（約人民幣3.83億元）薄膜業務價格為基礎進行調整。

從旭化成收購薄膜材料業務

此次轉讓包括旭化成在日本、韓國、北美和中國制造、開發和銷售光掩模薄膜業務，以及受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（業務），生效日期為2023年7月1日（預定）。

收購該業務后，三井化學將在日本國內擁有兩個薄膜生產基地：巖國大竹工廠（山口縣和木町）和目前的旭化成延岡工廠（宮崎縣延岡市）。

三井化學目前參與了用于半導體的小型薄膜業務。從旭化成那里，三井化學將在半導體業務的基礎上收購用于LCD的大型薄膜業務。除了強化LCD等陣容外，通過業務規模的擴大將繼續推動新產品開發能力的提高。

旭化成退出薄膜業務之后，將把重點放在全球市場上占有很大份額的半導體制造用光敏樹脂材料上。

光掩模

光掩模，也叫半導體光罩，是半導體光刻工藝中的高精密工具，主要由基板和不透光材料組成，起到光刻機與大硅片的橋梁和紐帶作用。

從規模看，光掩膜僅約占芯片總成本的13%，其價值遠低于占比38%的硅片，關注度更是與硅片相去甚遠。但小小的光掩膜價值卻非比尋常，它不僅是芯片制造中必不可少的核心材料之一，其質量的好壞更是直接決定芯片最終的性能。

全球領先的光掩模制造商的總部也大多設在日本。據CSET預計，日本企業控制了53%的商業光掩模市場，美國企業占比40%，臺灣企業占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks兩家大廠都是日本廠商。

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