外媒：光刻機正在被拋棄
2022年4月21日 15:13瀏覽：2145
EUV光刻機是生產制造7nm以下芯片的必要設備，可以說，EUV光刻機被生產制造出后，其就被臺積電、三星、英特爾等廠商爭相訂購。
即便是國內廠商中芯國際，也早早就全款訂購了一臺EUV光刻機。
但EUV光刻機被研發制造出來后，ASML就受到了諸多的約束，導致EUV光刻機等設備不能自由出貨，很多廠商想買卻買不到。
再加上，規則等不斷被修改，斷供的情況愈加頻繁發生，而芯片制造成本也不斷提升，于是，越來越多的廠商開始選擇其它路徑研發制造先進制程的芯片。
例如，由于EUV工藝成本太高，佳能、鎧俠等廠商就聯合推出了NIL工藝，該工藝在不使用EUV光刻機的情況下，也能夠生產5nm等制程的芯片。
根據佳能等發布的消息可知，NIL工藝相比EUV光刻機能夠減少90%的設備成本，還能夠大量節約電力等能源成本，預計2025年就能夠量產5nm芯片。
除了NIL工藝外，蘋果、英特爾、AMD等廠商都在研發先進的芯片封裝工藝，其中，蘋果已經推出了M1 Ultra芯片，就是將兩顆M1 Max芯片封裝到了一起。
數據顯示，蘋果M1 Ultra芯片實現了性能翻倍提升，AMD的3D封裝工藝實現了性能提升15%以上。
即便是華為也做出了明確表態，要在芯片上采用多核架構，用堆疊、面積換性能的方式，解決華為高性能芯片。
由于ASML的EUV光刻機不能自由出貨，即便是出貨到外企中國分廠也受到了約束，再加上，其還在俄等市場出現了暫停出貨等情況。
于是，部分國家和地區的企業也紛紛開始自研先進的光刻機等設備。
例如，華為已經全面進入芯片半導體領域內，還要在終端制造等方面實現突破，而國內也將先進的光刻機作為主要首先要攻克的技術問題。
佳能等老牌光刻機廠商也正式聯合起來，目的就是在先進光刻機是打破ASML的壟斷，俄方面的技術學院也宣布研發制造先進的X射線光刻機。
主要都是因為ASML不能自由出貨，其還多次表示EUV光刻機集合了全球40個國家的高端技術，給其它廠商圖紙也造不出來。
而上述國家和地區的廠商進入光刻機領域內，目的就是想打破ASML的壟斷地位，徹底解決卡脖子的問題。
這些動作先后出現后，就有外媒表示，這是正在拋棄ASML的EUV光刻機，拋棄的主要原因就是成本高、不能自由出貨。
據悉，7nm進步到5nm，已經導致芯片成本上升，而3nm芯片的制造成本會進一步上升，但性能提升相比5nm芯片并沒有明顯的進步。
所以就導致英特爾、AMD、蘋果等廠商向先進的封裝工藝推進，畢竟，蘋果是臺積電第一大客戶，而AMD是臺積電7nm工藝的最大客戶。
而ASML不能自由出貨給很多芯片廠商帶來了不便，就像EUV光刻機不能出貨到外企中國分廠，國內廠商訂購的EUV光刻機至今都沒有到貨。
再加上，ASML也對俄市場實施了暫停出貨等政策，這給其它光刻機廠商提供了一定市場發展空間，只有推出類似ASML的EUV光刻機，就能夠獲得大量的市場。
或者說，只要拿出了能夠替代EUV工藝的芯片制造技術。
所以很多國家和地區的企業紛紛自研新技術，或者自研先進的光刻機等設備，這意味著ASML的EUV光刻機也正在被拋棄。
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