光學設計必學!Zemax 成像設計課程 招生中
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Zemax 成像設計線上培訓
培訓大綱
01 OpticStudio 軟件功能介紹; 02 材料庫、鏡頭庫介紹; 03 如何定義新材料; 04 如何使用鏡頭庫; |
23 柯勒照明綜合設計實例; 24 投影系統設計 25 集光系統設計; 26 暗盒系統介紹; |
05 像差理論介紹; 06 Zemax 里像差分析圖譜; 07 優化; 08 局部優化 |
27 分析工具應用; 28 尋找最佳非球面 29 曲率套樣板; 30 鏡頭匹配工具; |
09 全局優化; 10 錘形優化; 11 優化函數架構技巧; 12 單透鏡優化實例 |
31 Zemax 公差分析功能介紹; 32 加工誤差、裝配誤差; 33 靈敏度分析; 34 反靈敏度分析; |
13 雙膠合優化實例; 14 熱分析及衍射光學元件的使用; 15 實例設計及分析; 16 MTF |
35 蒙特卡羅分析; 36 公差評價標準; 37 公差操作數; 38 補償變量的使用; |
17 雙高斯鏡頭設計及優化; 18 像質評價與圖像模擬; 19 坐標變換; 20 坐標斷點面的使用技巧 |
39 單透鏡公差分析; 40 庫克鏡頭公差分析; 41 分析報告查看說明; 42 公差腳本的使用; |
21 序列模式棱鏡建模; 22 掃描反射鏡設計實例; |
43 鏡頭出圖、CAD 出圖; 44 小結及答疑 |
培訓信息
主辦單位:武漢宇熠科技有限公司
培訓主題:Zemax 成像設計
培訓形式:線上培訓
培訓時間:2022年3月9~10日(9:00-17:00)
培訓費用:¥ 1980元 / 人
三人及以上組團報名可享八折優惠
報名方式:掃碼報名
【備注】
銷售熱線:027-87878386
咨詢郵箱:sales@ueotek.com
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