PVD涂層技術(shù)——了解一下
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什么是PVD？
PVD（Physical Vapor Deposition）即物理氣相沉積，是當(dāng)前國際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基底上。目前市面上使用最多的PVD技術(shù)主要分為磁控濺射鍍、多弧離子鍍和蒸鍍三大類。
01
磁控濺射鍍
原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子沉積到基層表面形成膜層。
02
多弧離子鍍
原理：采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜。
03
蒸鍍
原理：在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜。
PVD的性能？
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