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關(guān)注 | 半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率的最新統(tǒng)計(jì)

半導(dǎo)體材料與工藝設(shè)備

2021年9月22日 14:35

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據(jù)國(guó)內(nèi)主流12英寸產(chǎn)線的半導(dǎo)體工藝設(shè)備招投標(biāo)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，在12類(lèi)主要半導(dǎo)體設(shè)備中，去膠設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化程度最高為82.4%，CMP、清洗、熱處理、刻蝕、PVD等設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率接近或超過(guò)20%。鍍銅、CVD、量測(cè)、離子注入、光刻、涂膠顯影等設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化程度仍處于較低水平。

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關(guān)注 | 半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率的最新統(tǒng)計(jì)的圖2

資料來(lái)源：節(jié)選自中銀證券2021年9月7日發(fā)布的《半導(dǎo)體行業(yè)周報(bào)》

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來(lái)源：半導(dǎo)體設(shè)備與材料

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