設備｜晶洲裝備G8.5濕法刻蝕設備量產設備交付
2021年9月13日 10:13瀏覽：2365
2021年，晶洲裝備迎來新的家園，站在新的高度，踏上了新的征程。新廠竣工伊始，晶洲接獲某大客戶大尺寸顯示基地示范工廠G8.5刻蝕設備訂單，歷時130余天，G8.5刻蝕設備較之標準生產周期提前50天超前完成生產，順利下線。這是我司新工廠投入使用后首批交付的主工藝設備，該訂單的接獲，體現了行業標桿企業對晶洲研發設計以及生產能力的認可。
濕法刻蝕設備主要應用于平板顯示制程的陣列(Array)段，其原理是利用化學的方法對經過曝光與顯影后的基板表面金屬膜層進行均勻刻蝕，進而形成光刻定義的電路圖，是圖形化工藝的關鍵制程，一向由進口設備商壟斷，國內廠商少有涉及。
2018年，晶洲裝備G6AMOLED濕法刻蝕設備成功入選江蘇省“首臺套”重大裝備產品，填補國內空白的同時，打破了國外進口設備的壟斷局面，并且在結構設計、功能實現上與進口設備媲美。
2020年，晶洲裝備G8.5大世代設備技術陸續突破，顯影、刻蝕、剝膜等一系列主工藝設備形成批量訂單，并陸續交付，全面覆蓋了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各種膜材的刻蝕工藝。到了2021年度，隨著新廠房的竣工，江蘇省硅基濕制程智能制造裝備工程技術研究中心、物理與化學實驗室等即將投入使用，晶洲的研究開發能力又邁上了新的臺階。
近年來，隨著我國電子產業的發展，下游市場需求增加，在市場利好的情況下終端顯示企業紛紛擴充產能。
為了助力客戶產能爬坡，按時、保質交付產品，在疫情期間，晶洲一方面做好防疫工作，另一方面組織多部門通力協作，明確生產任務、時間節點、工作分配，甚至犧牲部分休息時間，連續奮戰。
歷時130余天，G8.5濕法刻蝕設備交付周期較之標準工時提前50天完成，順利下線，助力客戶產能達峰。
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