隨著我國平板顯示、光伏以及半導體產業的發展，國產濕制程裝備的需求日益增長，經過地方政府的考察與認可，2020年晶洲裝備投資新建濕制程智能裝備生產基地。經過400多天的施工，目前該項目已順利通過竣工驗收。

 

晶洲裝備自2011年成立以來，一直專注于平板顯示、光伏、半導體領域的高精密濕制程裝備的生產及研發，產品主要包括高精密清洗、濕法刻蝕、光阻剝離、顯影等高端濕制程設備，至2021年6月，平板顯示工藝制程設備累積交付逾200臺/套；已交付量產設備對應基板尺寸涵蓋G2.5~G8.6。

隨著新建濕制程智能裝備生產基地的交付使用，制造車間可對應G10.5、G11超大尺寸基板裝備制造，機型可對應包括單層I Type、雙層I Type、U Type等；實現平板顯示全系列基板尺寸裝備全覆蓋。

 

濕法裝備實物示例

 

晶洲裝備本次投產的濕制程智能裝備生產基地位于江蘇省常熟市高新技術產業開發區辛莊工業園，占地40,000平方米，具備年度120臺以上中大世代設備的交付能力。

以晶洲裝備2018年獲得江蘇省首臺(套)重大裝備的G6濕法刻蝕機為例，單臺濕法刻蝕機寬4米，高4.5米，長達30米；120臺中大世代設備可以擺滿兩個足球場。

這樣一個體積龐大的大型裝備，潔凈度要求卻非常高，設備內部潔凈度要求達到Class10，即每立方米空間直徑大于0.5微米小于5微米的顆粒物不能超過10個，而人體細胞的平均直徑在10-20微米，相當于每立方米空間不能有超過10個細胞大小的顆粒物。

 

微觀膜層器件結構及顆粒污染物不良影響示例

 

為了達到這一要求，設備整機裝配需要在無塵車間進行；面向平板顯示工藝制程設備組裝均需在無塵室進行，為了保障裝配精度及部品潔凈度，新建了兩個恒溫恒濕加工車間。車間局部區域環境等級達Class100，具備高精密半導體設備的組裝及調試條件。

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