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據(jù)了解，三星電子華城工廠半導(dǎo)體生產(chǎn)線部分超細(xì)微工藝出現(xiàn)生產(chǎn)問題。
良品率率低于50%，簡單地說，做10個(gè)產(chǎn)品的話，正常品不到一半。
據(jù)分析指出，為了改善良品率，投資尖端設(shè)備是關(guān)鍵。
資料圖（圖片來源：互聯(lián)網(wǎng)）
去年2月，三星電子在京畿道華城的V1線開始稼動(dòng)。
V1是7納米以下先進(jìn)半導(dǎo)體生產(chǎn)園區(qū)，是全球首條極紫外線、EUV專用生產(chǎn)線。
多位業(yè)內(nèi)人士表示，“近期V1線的Foundry生產(chǎn)良品率沒有改善，5納米等部分量產(chǎn)產(chǎn)品良品率在50%以下。”
良品率是決定半導(dǎo)體技術(shù)實(shí)力和企業(yè)業(yè)績的最重要因素。
黃鐵成/首爾大學(xué)材料工程部首席教授稱，在半導(dǎo)體制造中，良品率指的是在晶圓上的芯片數(shù)量與良品的比率。良率越高，生產(chǎn)的良品就越多，利潤就越好。因此，良品率是最重要的生產(chǎn)因素。
目前，三星電子正與中國臺(tái)灣TSMC在5納米以下超細(xì)微工藝上角逐勝負(fù)。
分析指出，為了改善先進(jìn)工藝產(chǎn)出率，EUV曝光設(shè)備等尖端裝備投資是關(guān)鍵。
資料圖（圖片來源：互聯(lián)網(wǎng)）
李宗煥/詳明大學(xué)系統(tǒng)半導(dǎo)體工程系教授稱，細(xì)微工藝適用的良品率一般超過95%以上。這樣在計(jì)算成本時(shí)，才會(huì)有收益。如果不大規(guī)模地嘗試曝光設(shè)備的量產(chǎn)規(guī)模，需要長時(shí)間進(jìn)行優(yōu)化，但是預(yù)計(jì)三星電子終將會(huì)克服這一問題
三星電子表示，“量產(chǎn)品的良率無法公布”，并稱“整個(gè)生產(chǎn)線的量產(chǎn)運(yùn)營正在按計(jì)劃進(jìn)行”。
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