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來源:內(nèi)容來自「光刻人的世界」,謝謝。

在六月初,臺積電舉辦了 2021 年技術(shù)研討會,涵蓋了其在工藝節(jié)點技術(shù)方面的最新發(fā)展,旨在為客戶提高性能、成本和能力。在這次活動中,臺積電討論了其在制造中越來越多地使用極紫外 (EUV) 光刻技術(shù),使其能夠縮小到其 3nm 工藝節(jié)點,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過其競爭對手。臺積電還解決了當(dāng)前圍繞半導(dǎo)體需求的問題,并宣布正在建設(shè)用于先進(jìn)封裝生產(chǎn)的新工廠。

下面,我們把他們演講的Slide分享如下,讓大家知道這家晶圓代工巨頭的發(fā)展方向。

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