市場 | 南大光電光刻膠再獲突破，在邏輯芯片55nm節點獲客戶認證

半導體材料與工藝設備

2021年6月4日 14:12

作為光刻環節的重要耗材，光刻膠的質量和性能直接影響集成電路制造產線良率，是集成電路制造的核心材料之一。按照曝光波長不同，光刻膠可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及新興的EUV光刻膠5大類。其中，ArF 光刻膠材料可用于90nm-14nm 甚至 7nm 技術節點的集成電路制造工藝，廣泛應用于邏輯芯片、存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等高端芯片制造。

長期以來，全球高端光刻膠（主要指KrF、ArF和EUV光刻膠）市場被以日本合成橡膠、東京應化、信越化學、富士電子材料等為代表的國外技術壟斷。隨著國內 IC 行業的快速發展以及先進制程工藝的應用，光刻膠的用量持續提升。目前，國內從事高端光刻膠研發和生產的公司主要有南大光電、上海新陽、晶瑞股份、北京科華等。

近日，南大光電公告稱，其控股子公司寧波南大光電自主研發的 ArF 光刻膠產品繼 2020 年 12 月在一家存儲芯片制造企業的 50nm 閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業 55nm 技術節點的產品上取得了認證突破。認證評估結果顯示，本次認證系選擇客戶 55nm 技術節點邏輯芯片產品的工藝進行驗證，寧波南大光電研發的 ArF 光刻膠的測試良率結果符合要求，具備 55nm 平臺后段金屬布線層的工藝要求。

據悉，南大光電從事先進前驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導體材料產品生產、研發和銷售。2020年底，南大光電自主研發的ArF光刻膠產品通過下游客戶的使用認證，成為通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠，各項光學性能均達到商用膠水平。

南大光電目前已完成兩條光刻膠生產線的建設，正在推動ArF光刻膠的客戶驗證和量產工作，相關配套材料產業化也在穩步推進。半個月前，南大光電曾在投資者互動平臺表示，公司已建成25噸光刻膠生產線，生產線已具備批量生產的條件。

公告同時提示，ArF 光刻膠產品與本次認證通過的客戶之間的產品銷售與服務協議尚在協商之中。ArF 光刻膠的復雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善，這些都會決定 ArF 光刻膠的量產規模和經濟效益。公司將根據后續進展履行信息披露義務。

來源：中國電子報