「指甲蓋」上集成500億晶體管!全球首款2nm芯片制程發布,未來手機四天一充電?
也許你都忘了,IBM曾是一家大牌的芯片制造商。
但它今天給我們提了個醒兒:全球第一個 2 納米芯片制造技術,誕生在了紐約州奧爾巴尼的IBM研究院。
在IBM研究院的阿爾巴尼工廠制造的2納米晶圓
每十年都是考驗摩爾定律極限的期限,以2021為開端的十年也不例外。
隨著極紫外(EUV)技術的到來,加上其他更多的技術改進,晶體管尺寸得以減少。但目前看來,這項技術已經趨于瓶頸。
據IBM稱,其新推出技術這種架構可以平衡性能與能源效率——比目前主流的7納米芯片快 45%,功耗減少 75%。
這個消息,就像一個重磅炸彈,在臺積電、三星、英特爾盤踞太久的芯片行業,讓IBM狠狠地刷了波存在感。
但必須澄清的是,雖然該工藝節點被稱為「2納米」,這個2nm跟傳統談論的線寬不一樣。
全球首個2納米芯片制造技術,但2納米的標簽你搞清了嗎
在過去,這個尺寸曾經是芯片上二維特征尺寸的等效度量,如90納米、65納米和40納米。
然而,隨著FinFET和其他3D晶體管設計的出現,現在的工藝節點名稱是對「等效2D晶體管」設計的解釋。一般用晶體管密度可以更準確的衡量,如同英特爾倡導的那樣。
例如,英特爾的7納米工藝將與臺積電的5納米工藝大致相同;臺積電的5納米工藝也甚至沒有50%的改進(它比7納米工藝只提供15%的改進),所以稱其為5納米工藝本身就有點牽強。根據IBM的說法,他們的「2納米」技術比臺積電的7納米工藝有大約50%的改進,這樣以來——即使按照當今最寬松的標準,也頂多是3.5納米技術。
但這不代表IBM的新消息沒有技術含量。
IBM表示,新芯片將在「手指甲大小」的芯片中配備多達500億個晶體管,這使得IBM的晶體管密度為每平方毫米3.33億個晶體管(MTr / mm 2)。
通過下表可以獲得更好的比較:
不同的代工廠有不同的官方名稱,有各種密度。值得注意的是,這些密度數字通常被列為峰值密度,用于晶體管庫,其中芯片面積是峰值關注點,而不是頻率擴展--由于功率和熱方面的考慮,通常處理器最快的部分的密度是這些數字的一半
關于向全方位門/納米片晶體管的發展,雖然IBM沒有明確表示,但圖片顯示,這種新的2納米處理器采用了三層GAA設計。
IBM 2納米硅制造工藝的剖面圖:疊加式GAA(Stacked GAA ,其中GAA是「切入環繞式柵極技術」的簡稱)
此前,三星在3納米時引入GAA,而臺積電則要等到2納米。相比之下,英特爾將在其5納米工藝中引入某種形式的GAA。
該工藝包括每個鰭片中的三個門-周圍(GAA)納米片通道。極端紫外線(EUV)處理對于定義工藝中的小尺寸是必要的,但它允許納米片的寬度在15納米到70納米之間。為了呼應IBM早期在絕緣體上的硅(SOI)工作,該工藝包括一個底部電介質隔離,以實現12納米的門長。IBM已經開發了一種內隔板干式工藝,以提供精確的柵極尺寸控制。該工藝支持多種閾值電壓,用于SoC和高性能計算應用。這是首次在工藝的FEOL部分使用EUV圖案,使關鍵層的設計的所有階段都能使用EUV
據IBM稱,這項先進技術的潛在好處可能包括:
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手機電池壽命翻兩番,只要求用戶每四天給他們的設備充電一次。
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減少數據中心的碳足跡,這些中心占全球能源使用量的1%,即5.8億兆焦耳。將他們所有的服務器改為基于2納米的處理器,有可能大大減少這一數字。
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大大加快筆記本電腦的功能,從快速處理應用程序,到更容易地協助語言翻譯,到更快的互聯網訪問。
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有助于加快自動駕駛汽車等自主車輛的物體檢測和反應時間。
來源:venturebeat&新智元
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