鈦酸鑭光學特性-鈦酸鑭光學特性 在薄膜技術領域
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鈦酸鑭光學特性
在薄膜技術領域,損耗吸收低、機械性能優良、易于制備,性能穩定的鍍膜材料一直是工藝和設計人員的首選材料。鈦酸鑭(H4)薄膜在此方面顯示出無比優越的性能,研究表明,該薄膜具有良好的工藝穩定性,無論是室溫還是加熱沉積,或者無論蒸鍍過程中充氧多少(甚至不充氧),蒸發束流高低,其折射率變化均不大,消光系數極小,激光損傷閾值穩定。該材料是由氧化鈦和氧化鑭合成得到的,其化學成分為LaTiO3,光譜透明區為360~7 000 nm,是一種極具發展前途的光學鍍膜材料。
鑒于鈦酸鑭薄膜具有損耗吸收小、易于制備,性能穩定的優良特性,可作為激光薄膜制備的一種優良鍍膜材料,因而具有極大的發展潛力。同時,不同波長的激光輻照處理,會對薄膜的不同性能改善起到意想不到的效果。
愛特斯專業生產鈦酸鑭,主要有燒結顆粒和晶體顆粒,純度可以達到99.99%以上,鈦酸鑭為鈦和鑭的混合物,10年以上的生產經驗,品質穩定,技術過硬,遠銷歐美、日韓、東南亞等國家。
鈦酸鑭在薄膜技術領域,損耗吸收低、機械性能優良、易于制備,性能穩定,光譜透明區為360~7 000 nm
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