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培訓課程一:ZEMAX 成像光學系統設計 線上培訓
課程大綱
1 Zemax OpticStudio簡介
2 數據庫;鏡頭庫,材料庫
3 玻璃材料以及如何定義新材料
4 像差簡介以及OpticStudio中的像差圖表
5 優化
6 局部/全局/錘形優化/優化操作數
7 優化實例:單透鏡/雙透鏡
8 熱分析
9 二元面及衍射光學表面
10 鬼像及雜散光分析
11 調制傳遞函數和成像質量評估
12 雙高斯鏡頭的設計與優化
13 OpticStudio中的坐標系統
14 坐標間端面及其使用技巧
15 序列模式中餓棱鏡模型
16 實例:掃描振鏡
17 實例:科勒照明
18 轉換為非序列模式
19 黑盒系統
20 OpticStudio中的優化工具
21 尋找最佳非球面/轉換非球面類型
22 公差分析簡介
23 制造誤差和裝配誤差
24 公差評價標準
25 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析
26 公差補償器
27 公差操作數
28 公差示例:對單透鏡/庫克三片鏡進行公差分析
29 公差報告
30 鏡片/CAD制圖
培訓課程二:ZEMAX 照明設計與雜散光分析
課程大綱
01 非序列光線追跡
02 光源物體
03 探測器物體
04 分辨率 VS 噪聲
05 照明單位 & 幾何量
06 光源建模
07 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型
08 光源建模:Source Radial
09 光原建模:內置幾何模型
10 光原建模:使用測量數據
11 生成 Source Model 光線
12 模擬光源光譜
13 色度學
14 建模彩色光源
15 測量顏色數據
16 照明系統
17 拋物面反射器
18 Sobol 采樣
19 BMP 位圖優化
20 復合拋物面聚光器 CPC
21 背光模組 物體陣列 & 光源陣列
22 復雜幾何體
23 嵌套規則
24 原生布爾物體和布爾 CAD 物體
25 CAD 導入 & 導出
26 使用混合模式
27 偏振光線追跡
28 物體屬性:面分組 & 屬性
29 光線分裂
30 X-Cube 棱鏡
31 簡單光線分裂
32 非序列設置
33 故障排查:光線追跡中止條件
34 故障排查:幾何錯誤
35 “ Inside of ” 標識
36 故障排查:膠合距離
37 故障排查:面元物體 & 繪圖精度
38 序列模式轉換成非序列模式
39 雜散光分析介紹
40 散射
41 雜散光分析工具
42 Maksutov 雜散光分析
43 非序列鬼像分析
44 非序列系統公差分析
課程信息
費用:費用均為 1680元/人
活動優惠:同時報名參加享九折優惠
培訓形式:線上培訓
課程日期:2020 年 10 月 24 日 - 27 日
課程時間: 9 :00 - 17 : 00
主辦單位:武漢宇熠科技有限公司
報名方式
掃碼報名

聯系方式
電話:027-87878386
郵箱:sales@ueotek.com
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