ZEMAX 成像光學系統設計 線上培訓

以下是本次線上培訓的大綱：

課程大綱

1 Zemax OpticStudio簡介

2 數據庫；鏡頭庫，材料庫

3 玻璃材料以及如何定義新材料

4 像差簡介以及OpticStudio中的像差圖表

5 優化

6 局部/全局/錘形優化/優化操作數

7 優化實例：單透鏡/雙透鏡

8 熱分析

9 二元面及衍射光學表面

10 鬼像及雜散光分析

11 調制傳遞函數和成像質量評估

12 雙高斯鏡頭的設計與優化

13 OpticStudio中的坐標系統

14 坐標間斷面及其使用技巧

15 序列模式中棱鏡模型

16 實例：掃描振鏡

17 實例：科勒照明

18 轉換為非序列模式

19 黑盒系統

20 OpticStudio中的優化工具

21 尋找最佳非球面/轉換非球面類型

22 公差分析簡介

23 制造誤差和裝配誤差

24 公差評價標準

25 靈敏度/反靈敏度/蒙特卡羅分析

26 公差補償器

27 公差操作數

28 公差示例：對單透鏡/庫克三片鏡進行公差分析

29 公差報告

30 公差腳本

31 鏡片/CAD制圖

課程信息

費用：1680元/人

活動優惠：3人組團或者邀請10個好友轉發朋友圈（請勿刪除或分組）享九折優惠

課程日期：2020 年 9 月 28 日 - 29 日

課程時間： 9 ：00 - 17 ： 00

主辦單位：武漢宇熠科技有限公司

報名方式

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電話：027-87878386
郵箱：sales@ueotek.com

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