Ls_Dyna中接觸控制卡片設(shè)置

【SLSFAC】滑動(dòng)接觸懲罰系數(shù) ,默認(rèn)為 0.1。當(dāng)發(fā)現(xiàn)穿透量過大時(shí),可以調(diào)整該參數(shù)。
【RWPNAL】剛體作用于固定剛性墻時(shí),剛性墻罰函數(shù)因子系數(shù),為 0.0 時(shí),不考慮剛體與剛性墻的作用;>0 時(shí),剛體作用于固定的剛性墻,建議選擇 1.0。
【ISLCHK】接觸面初始穿透檢查,為 0 或 1 時(shí),不檢查。為 2 時(shí),檢查。
【SHLTHK】在 STS 和 NTS 接觸類型中,即在面-面接觸和點(diǎn)-面接觸類型中考慮殼單元厚度的選項(xiàng)。選項(xiàng) 1 和 2 會(huì)激活新的接觸算法。厚度偏置通常包括在單面接觸、約束算法、自動(dòng)面面接觸和自動(dòng)點(diǎn)面接觸類型中。
EQ.0:不考慮厚度偏置。
EQ.1:考慮厚度偏置但剛體除外。
EQ.2:考慮厚度偏置,包括剛體。
【PENOPT】對(duì)稱剛度檢查。如果兩個(gè)接觸物體的材料性質(zhì)與單元大小的巨大差異,引起接觸主面與從面之間接觸應(yīng)力不匹配,可能導(dǎo)致計(jì)算不穩(wěn)定和計(jì)算結(jié)果不切實(shí)際,這時(shí)可以調(diào)整該選項(xiàng)克服。
EQ.0:自動(dòng)設(shè)為 1。
EQ.1:接觸主面和從節(jié)點(diǎn)剛度的最小值。(默認(rèn))
EQ.2:用接觸主面的剛度值。(過去的方法)
EQ.3:用從節(jié)點(diǎn)的剛度值。
EQ.4:用從節(jié)點(diǎn)的剛度值,面積或質(zhì)量加權(quán)。
EQ.5:與 4 相同,但是厚度加權(quán)。通常不推薦使用。
注:選項(xiàng) 4 和 5 推薦在金屬成型計(jì)算中使用。
【THKCHG】單面接觸中考慮殼單元厚度變化的選項(xiàng)。
EQ.0:不考慮。(默認(rèn))
EQ.1:考慮殼單元厚度變化。
【ORIEN】初始化過程中接觸面截面自動(dòng)再定位選項(xiàng)。
EQ.0:自動(dòng)設(shè)為 1。
EQ.1:僅自動(dòng)(part)輸入時(shí)激活。接觸面由 part 定義。
EQ.2:手動(dòng)(segment)和自動(dòng)輸入(part)都激活。
EQ.3:不激活。
【ENMASS】對(duì)接觸過程中銷蝕掉的節(jié)點(diǎn)的質(zhì)量的處理。該選項(xiàng)影響所有當(dāng)周圍單元失效而自動(dòng)移除相應(yīng)節(jié)點(diǎn)的接觸類型。通常,銷蝕掉的節(jié)點(diǎn)的移除會(huì)使計(jì)算更穩(wěn)定,但是質(zhì)量的減少會(huì)導(dǎo)致錯(cuò)誤的結(jié)果。
EQ.0:從計(jì)算中移除銷蝕的節(jié)點(diǎn)。(默認(rèn))
EQ.1:保留體單元銷蝕的節(jié)點(diǎn)并在接觸中繼續(xù)起作用。
EQ.2:保留體單元和殼單元銷蝕的節(jié)點(diǎn)并在接觸中繼續(xù)起作用。
【USRSTR】每個(gè)接觸面分配的存儲(chǔ)空間,針對(duì)用戶提供的接觸控制子程序。
【USRFRC】每個(gè)接觸面分配的存儲(chǔ)空間,針對(duì)用戶提供的接觸摩擦子程序。
【NSBCS】接觸搜尋的循環(huán)數(shù)(使用三維 Bucket 分類搜索),推薦使用默認(rèn)項(xiàng)。
【INTERM】間歇搜尋主面和從面接觸次數(shù)。
【XPENE】接觸面穿透檢查最大乘數(shù),默認(rèn) 4.0。
【SSTHK】在單面接觸中是否使用真實(shí)殼單元厚度,默認(rèn) 0,不使用真實(shí)厚度。
【ECDT】時(shí)間步長(zhǎng)內(nèi)忽略腐蝕接觸。
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