以下為中間過程中的溫度場

本實(shí)例介紹在一個高斯脈沖激光光源溫度場的模擬，包含了脈沖激光的apdl程序，高斯光源的APDL程序，以及隨溫度變化的材料參數(shù)設(shè)置，apdl程序?yàn)閰?shù)化建模，只需修改相應(yīng)的數(shù)據(jù)，即可更換模型參數(shù)。

下層基板：長1000微米，寬300微米，高300微米;上層板材：長1000微米，寬300微米，厚30微米。

激光照射上層板材，由寬度方向的中點(diǎn)進(jìn)入，沿長度方向直線掃描一道，到另一邊中點(diǎn)結(jié)束

激光為普通高斯光源，形式為脈沖激光，如圖3，其中激光頻率=1/T_Cycle, 占空比=T_Pulse/T_Cycle 

在模擬的過程中要實(shí)現(xiàn)激光功率，掃描速度，激光頻率和占空比的可變。求得上層板材中心位置溫度隨時間的變化曲線

1. 溫度場只考慮傳熱，不考慮對流以及輻射，環(huán)境溫度為室溫25攝氏度。

2. 材料的各項(xiàng)參數(shù)不是固定參數(shù)，而是隨溫度變化的參數(shù)。

激光參數(shù)：

光斑直徑：100微米

激光功率：200W  

掃描速率v=800mm/s 

占空比ra=0.5 

激光頻率f=20000Hz